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乙二胺四亚甲基磷酸阻垢剂

产品简介

乙二胺四亚甲基磷酸阻垢剂通常指乙二胺四亚甲基膦酸钠(EDTMPS),是有机膦类阻垢缓蚀剂的代表产品之一。

产品型号:
更新时间:2025-05-26
厂商性质:生产厂家
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乙二胺四亚甲基磷酸阻垢剂通常指乙二胺四亚甲基膦酸钠(EDTMPS),是有机膦类阻垢缓蚀剂的代表产品之一。以下是其核心信息及应用要点:


一、化学性质与结构

  1. 化学式

    • EDTMPS:C₆H₁₅O₁₂N₂P₄Na₅(钠盐形式),相对分子质量546.03。

    • EDTMP(酸式):C₆H₂₀N₂O₁₂P₄,常温下为白色结晶粉末,微溶于水(溶解度<5%)。

  2. 物理特性

    • EDTMPS:琥珀色透明液体,易溶于水,化学稳定性及耐温性好(200℃仍有效)。

    • EDTMP:淡黄色固体,熔点215~217℃,分解温度223~228℃,需干燥储存。


二、作用机理

  1. 螯合作用

    • EDTMPS在水中离解为8个正负离子,可与Ca²⁺、Mg²⁺、Ba²⁺等金属离子形成网状大分子络合物,破坏水垢结晶过程。

    • 对硫酸钙、等难溶盐的阻垢效果明显。

  2. 缓蚀性能

    • 阴极型缓蚀剂,通过吸附于金属表面形成保护膜,缓蚀率较无机聚磷酸盐高3~5倍。

    • 与锌盐、BTA(苯并三氮唑)等复配可增强缓蚀效果。


三、应用领域

  1. 循环水与锅炉水处理

    • 单独投加剂量为2~10mg/L,复配(如与HPMA按1:3比例)后可用于低压锅炉水处理。

    • 耐受高温(200℃),适用于工业循环冷却水系统。

  2. 工业清洗与预处理

    • 用于无氰电镀的络合剂、纺织印染行业的螯合剂和氧漂稳定剂。

    • 在反渗透(RO)系统中抑制硫酸钙、硅酸盐结垢。

  3. 其他领域

    • 高纯级EDTMPS可用于半导体芯片清洗、医药行业(如放射性元素携带剂)。

    • 替代乙二胺四乙酸(EDTA)作为环保型螯合剂。


四、乙二胺四亚甲基磷酸阻垢剂使用注意事项

  1. 剂量控制

    • 过量投加可能导致微生物滋生或金属过蚀,需通过实验确定最佳浓度。

    • 复配建议:与聚马来酸酐(HPMA)、聚丙烯酸(PAA)等联用,协同增效。

  2. 安全性

    • EDTMPS为中性物质,对皮肤和眼睛有中等刺激性,操作需佩戴防护装备。

    • 鱼类致死浓度>1000mg/L,环保性优异。

  3. 储存条件

    • EDTMPS需密封存放于阴凉处,保质期6个月。

    • EDTMP固体需防潮,建议-20℃惰性气氛保存。


五、与其他阻垢剂的对比

类别EDTMPS聚羧酸类(如PAA)无机膦酸盐(如六偏磷酸钠)
阻垢效果硫酸钙、钡垢优异,耐温性好分散碳酸钙垢效果好普通碳酸钙垢,易水解
环保性无磷/低磷,可生物降解无磷,绿色含磷,环保限制
复配性与缓蚀剂、聚羧酸类协同性强需搭配分散剂易与其他药剂冲突

总结

乙二胺四亚甲基膦酸钠(EDTMPS)凭借其高效螯合能力、耐温性和环保特性,成为工业循环水、锅炉水及反渗透系统的阻垢缓蚀剂。实际应用中需根据水质硬度、温度及环保要求优化剂量,并注重复配方案的设计以提升综合效益。

乙二胺四亚甲基磷酸阻垢剂

分子式 C6H12O12N2P4Na8 相对分子质量:612.1

金属表面处理剂。

羟基乙叉二膦酸 HEDP

HEDP是一种有机磷酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属表面的氧化物。HEDP在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用,在高pH值下仍很稳定,不易水解,一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机磷酸(盐)好。HEDP可与水中金属离子,尤其是钙离子形成六圆环螯合物,因而HEDP具较好的阻垢效果并具明显的溶限效应,当和其它水处理剂复合使用时,表现出理想的协同效应。

HEDP固体属于高纯产品,适用于冬季严寒地区;特别适用于电子行业的清洗剂和日用化学品添

EDTMPS是含氮有机多元膦酸,属阴极型缓蚀剂,与无机聚磷酸盐相比,缓蚀率高3~5倍。能与水混溶,无毒无污染,化学稳定性及耐温性好,在200℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子,因而可以与多个金属离子螯合,形成多个单体结构大分子网状络合物,松散地分散于水中,使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、垢的阻垢效果好。



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